 （電動(dòng)物鏡轉(zhuǎn)換器切換倍率和觀察方法） | 有涵蓋了低倍觀察到高倍觀察的4種物鏡，并在電動(dòng)物鏡轉(zhuǎn)換器上裝配了SPM單元?？梢詿o(wú)縫切換倍率和觀察方法，不會(huì)丟失觀察對(duì)象。此外，該款顯微鏡可以進(jìn)行納米級(jí)觀測(cè)。 |
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 | OLS4500是把光學(xué)顯微鏡、激光顯微鏡、探針顯微鏡融于一體的一體機(jī)，所以無(wú)需重新放置樣品，即可自由切換3種顯微鏡進(jìn)行觀察和評(píng)價(jià)。這3種顯微鏡各自持有優(yōu)異的性能，所以能夠高效輸出最佳結(jié)果。 |
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| BF 明視場(chǎng) 最常使用的觀察方法。在觀察中真實(shí)再 現(xiàn)樣品的顏色。適用于觀察有明暗對(duì)比 的樣品。 | DIC 微分干涉 對(duì)于在明視場(chǎng)觀察中看不到的樣品的微小高低差， 添加明暗對(duì)比使之變?yōu)榱Ⅲw可視。適用于觀察金 相組織、硬盤(pán)和晶圓拋光表面之類(lèi)鏡面上的傷痕 或異物等。 |
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| 簡(jiǎn)易偏振光 照射偏振光（有著特定振動(dòng)方向的光線）， 使樣品的偏光性變?yōu)槿庋劭梢暋＿m用于觀 察金相組織、礦物、半導(dǎo)體材料等。 | HDR 高動(dòng)態(tài)范圍 使用不同曝光時(shí)間拍攝多張影像并進(jìn)行影像合成， 可以觀察平衡度較好的明亮部分和陰暗部分。此 外，還可以強(qiáng)調(diào)紋理（表面狀態(tài)），進(jìn)行更精細(xì)的 觀察。 |
 | 使用探針顯微鏡開(kāi)始觀察之前， 可以在向?qū)М?huà)面上設(shè)置所需的條件， 如安裝微懸臂、掃描范圍等。所以經(jīng)驗(yàn)較少的操作者也能安心完成操作。 |
 新開(kāi)發(fā)的小型SPM測(cè)頭 | OLS4500采用了裝在電動(dòng)物鏡轉(zhuǎn)換器上的物鏡型SPM測(cè)頭。同軸、共焦配置了物鏡和微懸臂前端，所以切換SPM觀察時(shí)不會(huì)丟失觀察目標(biāo)點(diǎn)。不僅如此，新開(kāi)發(fā)的小型SPM測(cè)頭提高了剛性，所以與傳統(tǒng)產(chǎn)品相比，減少了影像瑕疵并提高了可追蹤性。 |
 曲率測(cè)量（硬盤(pán)的傷痕） | OLS4500能夠根據(jù)您的測(cè)量目的分析在各種測(cè)量模式中獲取的影像，并以CSV格式輸出測(cè)量結(jié)果。OLS4500有以下分析功能。
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 |  金屬薄膜 |
 |  鋁合金表面 |
 |  高分子薄膜 |
 |  Si電路板上的SiO2圖案樣品。高度影像（左）中 顯示為黃色的部分是SiO2。在電流影像（右）中 顯示為藍(lán)色（電流不經(jīng)過(guò)的部分）。通過(guò)上圖， 可以明確電路板中也存在電流不經(jīng)過(guò)的部分。 |
 |  磁帶樣品。在電位影像中可以看出數(shù)百mV的電位 差分布于磁帶表面。這些電位差的分布，可以認(rèn)為 是磁帶表面的潤(rùn)滑膜分布不均勻。 |
 |  硬盤(pán)表面樣品?？梢杂^察到磁力信息。 |
 LEXT 專(zhuān)用物鏡 |  有尖銳角的樣品（剃刀） |
 0.12μm行間距 |  高度差標(biāo)準(zhǔn)類(lèi)型B, PTB-5, Institut für Mikroelektronik, Germany, 6 nm高度測(cè)量中的檢測(cè) |
 | 近年來(lái)， 工業(yè)產(chǎn)品越來(lái)越趨于小型化和輕量化， 所以構(gòu)成產(chǎn)品的各種部件也越來(lái)越精細(xì)化。隨著這些部件的精細(xì)化， 除了形狀測(cè)量以外， 表面粗糙度測(cè)量的重要性也日益提高。 為了應(yīng)對(duì)這些市場(chǎng)需求， ISO規(guī)定的立體表面結(jié)構(gòu)測(cè)量?jī)x器中， 添加了激光顯微鏡和AFM（ISO 25178-6）。因此， 與傳統(tǒng)的接觸式表面粗糙度測(cè)量相同， 非接觸式表面粗糙度測(cè)量也被認(rèn)定為公認(rèn)評(píng)價(jià)標(biāo)準(zhǔn)。OLS4500中配置了符合ISO規(guī)定的粗糙度參數(shù)。 |
| 截面曲線 | Pp, Pv, Pz, Pc, Pt, Pa, Pq, Psk, Pku, Psm, PΔq, Pmr(c), Pδc, Pmr |
| 粗糙度曲線 | Rp, Rv, Rz, Rc, Rt, Ra, Rq, Rsk, Rku, Rsm, RΔq, Rmr(c),Rδc, Rmr, RZJIS, Ra75 |
| 波動(dòng)曲線 | Wp, Wv, Wz, Wc, Wt, Wa, Wq, Wsk, Wku, Wsm, WΔq, Wmr(c), Wδc, Wmr |
| 負(fù)荷曲線 | Rk, Rpk, Rvk, Mr1, Mr2 |
| 基本圖形 | R, Rx, AR, W, Wx, AW, Wte |
| 粗糙度 (JIS1994) | Ra(JIS1994), Ry, Rz(JIS1994), Sm, S, tp |
| 其他 | R3z, P3z, PeakCount |
| 振幅參數(shù) | Sq, Ssk, Sku, Sp, Sv, Sz, Sa |
| 功能參數(shù) | Smr(c), Sdc(mr), Sk, Spk, Svk, SMr1, SMr2, Sxp |
| 體積參數(shù) | Vv(p), Vvv, Vvc, Vm(p), Vmp, Vmc |
| 橫向參數(shù) | Sal, Str |
 明視場(chǎng)觀察可以獲取顏色信息。 紙張上的墨點(diǎn) | 光學(xué)顯微鏡是從樣品上方照射可見(jiàn)光（波長(zhǎng)約400 nm到800 nm）， 利用其反射光成像， 能夠放大樣品數(shù)十倍到一千倍左右進(jìn)行觀察。光學(xué)顯微鏡的特長(zhǎng)是可以真實(shí)觀察彩色樣品， 還可以切換觀察方法， 強(qiáng)調(diào)樣品表面的凹凸， 利用物質(zhì)的特性（偏光性）進(jìn)行觀察。OLS4500上可以使用下述觀察方法。 明視場(chǎng)觀察 最基本的觀察方法，通過(guò)樣品的反射光成像進(jìn)行觀察 微分干涉觀察 簡(jiǎn)易偏振光觀察 |
 激光顯微鏡的高精度XY掃描（示例） | 光學(xué)顯微鏡的平面分辨率很大程度上取決于所用光的光子和波長(zhǎng)，采用短波長(zhǎng)的激光掃描顯微鏡（LSM）比采用可見(jiàn)光的傳統(tǒng)顯微鏡，擁 有更高的平面分辨率。 LEXT OLS4500采用405 nm的短波長(zhǎng)半導(dǎo)體激光、高數(shù)值孔徑的專(zhuān)用物鏡、以及獨(dú)特的共焦光學(xué)系統(tǒng)，可以達(dá)到0.12 μm的平面分辨率。此外，OLS4500配有奧林巴斯獨(dú)有的掃描加掃描型2D掃描儀，可以實(shí)現(xiàn)高達(dá)4096×4096像素的高精度XY掃描。 |
 高度測(cè)量（微透鏡） | 激光顯微鏡采用短波長(zhǎng)半導(dǎo)體激光和獨(dú)有的雙共焦光學(xué)系統(tǒng)， 會(huì)刪除未聚焦區(qū)域的信號(hào)， 只將聚焦范圍內(nèi)的反射光檢測(cè)為同一高度。同時(shí)結(jié)合高精度的光柵讀取能力， 可以生成高畫(huà)質(zhì)的影像， 實(shí)現(xiàn)精確的3D測(cè)量。 |
 探針顯微鏡的原理 | 探針顯微鏡（SPM）是通過(guò)機(jī)械式地用探針在樣品表面移動(dòng)，檢測(cè)出探針與樣品之間產(chǎn)生的力、電的相互作用，同時(shí)進(jìn)行掃描，從而得到樣品影像。探針尖端曲率半徑為10 nm左右。典型的探針顯微鏡是原子力顯微鏡（AFM），它通過(guò)檢測(cè)探針和樣品表面之間作用的引力和張力進(jìn)行掃描并獲得影像。探針顯微鏡能夠觀察納米級(jí)微觀形貌，可以捕捉到樣品最精細(xì)的一面。 |
 SPM傳感器光路圖 | OLS4500上采用了光杠桿法——通過(guò)高靈敏度檢測(cè)出最前端裝有探針的微懸臂的微小彎曲量（位移）來(lái)進(jìn)行觀測(cè)的方法。在懸臂的背面反射激光，并用壓電元件驅(qū)動(dòng)Z軸，使激光照射到光電檢測(cè)器的指定位置，從而正確讀取Z方向的微小位移。 |
 高分子薄膜 | 探針顯微鏡擁有多種觀察模式，可以觀察、測(cè)量樣品表面的形狀，還可以進(jìn)行物性分析。OLS4500配有以下模式。
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